| Virtuální polytechnická knihovna - Souborný katalog - Úplný záznam dokumentu | Uživatel: Přihlásit |
| Název | Journal of chemical vapor deposition |
| Klíč. název | Journal of chemical vapor deposition |
| Vydavatel | Lancaster : Technomic, 1992-1998 |
| ISSN | 1056-7860 |
| Obor | chemie ch - PSH |
| Dále jako | Journal of wide bandgap materials, ISSN 1524-511X |
| Odběr | BOD116 [i]: 1993-1998 |
| SFX: JIB
NTK
SKC EZB NTK MARC |
| čtvrtek 01.05.2025 00:36:24 | © 2001-2018 Národní technická knihovna |